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上海微电子生产的光刻机在国内是什么水平?

  上海微电子已经成功生产光刻机了吗的?这个领域在国内是什么水平?首先上海微电子可以生产光刻机确实已经不是什么惊天秘密了,因为他早在2002年就有成立了,很多人也许没有听说过,原因实际就在于工艺方面相对落后,所以不被人们所熟知,因为确实相对于现在手机处理器方面的工艺来说,他目前最高可以生产90nm的技术,确实有些不够看,但是在国内确实是顶尖的存在。

  

上海微电子生产的光刻机在国内是什么水平?


  国内做光刻机的厂商之前确实有很多,但是大多数还是在130nm甚至280nm左右,而要说发展比较不错,工艺响度较高的就是上海微电子了。而从全球市场来看,中国光刻机工艺不算是落后,也不算是太强。

  一方面是因为,确实做光刻机的国家确实不多。之前的市场,荷兰的ASML,以及日本的佳能,尼康等等。ASML的成功源自于他吸收了各个行业的精英,要想使用就要入股,同时他使用的技术,比如计量设备和光源来自美国、镜头和精密仪器来自德国、轴承来自瑞典等等,他们都是行业的翘楚,之所以如此,他才发展到现在的强大。

  而日本尼康和佳能,确实也算是佼佼者,因为日本本身做精密电子技术确实很强,再加上光刻机所需要的镜片,以及光源等等,确实对于做相机出身的佳能和尼康来说,并不算是难事,但是现在佳能和尼康已经退出了光刻机市场,原因就在于没有了市场,高不成低不就,虽然不错,但是相比ASML确实有很大差距,所以销量很低,本身光刻机确实每年生产数量有限,再加上设备价格相对比较高,如果没有订单,或者是订单较少,确实就意味着只能淘汰出局。所以说起来现在,做光刻机的国家确实屈指可数。

  

上海微电子生产的光刻机在国内是什么水平?


  二方面,也是因为我们刚才说的,现在光刻机市场确实基本上被ASML垄断了,所以竞争者很少。另外一个方面根据最新的报道称,上海微电子28nm工艺即将到来,虽然没有权威的出处,但是对于我们来说也算是增加了信心,毕竟这是一个大的跨越,因为光刻机的研发实际是分为阶段性的,理论上90nm接下来应该是60nm、45nm、40nm,接下来才是28nm,而这次上海微电子直接从90nm到28nm,确实可见其实力。如果28nm研发成功量产的话,确实我们光刻机技术在世界上就算是站稳了脚跟。

  光刻机工艺方面确实难度比较大,比如零件甚至达到了10万个左右,同时需要系统协同工作,但是最重要的几个方面,我们已经慢慢在解决!

  

上海微电子生产的光刻机在国内是什么水平?


  我们现在顶级的差距还是比较大的。现在ASML最高可以生产5nm工艺,而且产品方面,比如苹果12上面的A14处理器,以及华为麒麟处理器9000系列都是5nm工艺,而我上海微电子即便是28nm开始量产,之后还是有很长的路要走,比如16nm/14nm,10nm,以及7nm,以及包括EUV极紫外刻技术目前来说确实也很难去解决。

  

上海微电子生产的光刻机在国内是什么水平?


  总结和观点:

  首先我国可以声场光刻机已经是很早之前的事情了,只是因为工艺方面的差距,所以并不能用在,我们日常使用的电子产品中。另外一个方面在于本身光刻机技术方面确实要求极高,所以和ASML相差有点大。

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